一、產(chǎn)品定位與核心優(yōu)勢(shì)

INFICON UL1000 Fab干式氦氣檢漏儀是專(zhuān)為半導(dǎo)體制造及工業(yè)檢漏場(chǎng)景打造的高性能檢測(cè)設(shè)備，憑借干式泵技術(shù)、ULTRATEST™傳感器技術(shù)與I-CAL算法，成為真空泄漏檢測(cè)領(lǐng)域的“干式標(biāo)準(zhǔn)"。它平衡了超高靈敏度、快速響應(yīng)與低污染特性，既能滿(mǎn)足半導(dǎo)體fab對(duì)清潔度的嚴(yán)苛要求，也能適配工業(yè)環(huán)境下高負(fù)荷、多場(chǎng)景的檢漏需求，為用戶(hù)提供兼具精準(zhǔn)性與經(jīng)濟(jì)性的檢漏解決方案。

二、核心功能與技術(shù)特點(diǎn)

1. 超靈敏與快速響應(yīng)通過(guò)優(yōu)化的真空架構(gòu)，UL1000 Fab實(shí)現(xiàn)了低至<5×10?12 mbar·l/s的真空模式檢漏靈敏度，搭配I-CAL智能泄漏率計(jì)算算法，在低泄漏率范圍也能實(shí)現(xiàn)秒級(jí)響應(yīng)——從1×10?12 mbar·l/s的背景值檢測(cè)到1×10?1? mbar·l/s的微小泄漏僅需不到1秒，解決傳統(tǒng)檢漏儀在低量程下響應(yīng)緩慢的痛點(diǎn)。同時(shí)，其15個(gè)數(shù)量級(jí)的寬測(cè)量范圍，可覆蓋從超微泄漏到較大泄漏的全量程檢測(cè)，無(wú)需更換設(shè)備即可完成多場(chǎng)景測(cè)試。

2. 干式清潔與污染防護(hù)采用干式渦旋泵與多入口渦輪分子泵組合，消除了油霧污染風(fēng)險(xiǎn)，避免被測(cè)部件或設(shè)備被碳?xì)浠衔铩㈩w粒污染，特別適配半導(dǎo)體制造中對(duì)清潔度要求的場(chǎng)景^。設(shè)備還具備自保護(hù)功能，可防止氦氣與微粒污染內(nèi)部組件，自動(dòng)吹掃循環(huán)能快速清理腔體，確保每次測(cè)試前設(shè)備處于狀態(tài)。

3. 高機(jī)動(dòng)性與易用設(shè)計(jì)全金屬外殼搭配集成滾輪，整機(jī)重量110kg，尺寸為1068×525×850mm，可輕松穿梭于fab車(chē)間或工業(yè)場(chǎng)地的狹窄空間^?？尚D(zhuǎn)的彩色顯示屏支持?jǐn)?shù)字、柱狀圖、趨勢(shì)圖等多種顯示模式，關(guān)鍵功能一鍵觸達(dá)，菜單式操作界面簡(jiǎn)單直觀，還可通過(guò)無(wú)線遙控器實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控，進(jìn)一步提升操作便利性。

三、技術(shù)參數(shù)

四、典型應(yīng)用場(chǎng)景

1. 半導(dǎo)體制造適配IC封裝、石英晶體、激光二極管等密封部件的檢漏測(cè)試，符合MIL-STD 883/843 Method 1014標(biāo)準(zhǔn)，可快速定位微米級(jí)泄漏點(diǎn)，保障晶圓加工設(shè)備腔體、真空法蘭等關(guān)鍵部位的真空穩(wěn)定性，提升產(chǎn)品良率。

2. 工業(yè)設(shè)備維護(hù)用于航空航天模擬艙、粒子加速器等科研真空系統(tǒng)，以及光伏PECVD鍍膜設(shè)備、鋰電池生產(chǎn)設(shè)備的泄漏檢測(cè)，在高負(fù)荷、高要求的場(chǎng)景下實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)、高效的檢漏作業(yè)。

3. 電子元器件檢測(cè)針對(duì)密封繼電器、接插件等電子產(chǎn)品，可完成批量、高循環(huán)率的密封性能測(cè)試，確保產(chǎn)品在嚴(yán)苛環(huán)境下的可靠性。